反滲透膜元件一切正常運作一陣子后，有可能會被水里存有的懸浮材質(zhì)或難溶材質(zhì)的環(huán)境污染，在其中最普遍的便是碳酸鈣垢、金屬氧化物垢、硫酸鈣垢、生物沉積物或硅沉積物。因此反滲透膜清洗是非常有必要性的。

　　而污染源的特性和環(huán)境污染速率是與水標準關(guān)聯(lián)的，如果不立即對環(huán)境污染跡象采取有效措施，膜元件的特性在短期內(nèi)內(nèi)便會被毀壞。

　　但是，按時對膜元件開展檢驗特性才算是明確是不是造成環(huán)境污染的好方法，且不同的污染源對膜元件特性的危害也是不同的。下列中列舉了某些普遍污染源對膜特性的危害。

　　上表對應(yīng)的普遍清潔液以下：

　　按當場的剖析狀況可根據(jù)詳細情況實際組合。

　　污染源的除去

　　針對污染源除去，大家都是選用化學(xué)水處理或物理清洗，有時候也會對運作標準開展更改。而什么時間才可以開始清理？當下列情況的一種造成時就應(yīng)該馬上開展清理。

　　1、一切正常壓力下出水流量降至標準值的10～15%；

　　2、在以便保持一切正常的出水流量時，溫度校準后需用給水壓力提升10～15%；

　　3、出水水的質(zhì)量降低10～15%。鹽透過率提升10～15%；

　　4、應(yīng)用時壓力提升10～15%；

　　5、RO各段間的壓差提升顯著（或許沒有儀表來檢測這種跡象）。

　　普遍污染源及其除去方式

　　1）碳酸鈣垢

　　在阻垢劑添加系統(tǒng)發(fā)生常見故障或加酸系統(tǒng)發(fā)生常見故障而導(dǎo)致給水pH上升的，那樣碳酸鈣就會有將會堆積出去。盡快發(fā)覺碳酸鈣垢沉積的狀況，避免成長的晶體對膜表層造成損害才算是恰當?shù)?。如初期發(fā)覺碳酸鈣垢，可以用降低給水pH至3.0～5.0之間運作1～2鐘頭的方式除去。而對沉積時長更長的碳酸鈣垢，則應(yīng)選用檸檬酸清潔液開展循環(huán)清理或整夜泡浸。

　　注：應(yīng)保障一切清潔液的pH不必需小于2.0，不然將會會RO膜元件導(dǎo)致危害，尤其是在溫度較高時更應(yīng)留意，最高的的pH不可高過11.0。應(yīng)用氨水來提升pH，應(yīng)用硫酸或鹽酸來降低pH值。

　　2）硫酸鈣垢

　　三聚磷酸鈉溶液（參見上表中三聚磷酸鈉溶液）是將硫酸鈣垢從反滲透膜表層去除掉的較佳方式。

　　3）金屬氧化物垢

　　能夠應(yīng)用上邊表明的除去碳酸鈣垢的方式，非常容易的除去堆積出來的氫氧化物（例如氫氧化鐵）。

　　4）硅垢

　　針對并不是與金屬化物或有機物相互依存的硅垢，要根據(jù)專業(yè)的清理方式將他們除去。

　　5）有機沉積物

　　有機沉積物（例如微生物粘泥或霉斑）能夠應(yīng)用上表清潔液3除去，以便避免再繁育，應(yīng)應(yīng)用殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、泡浸，一般說來需很長一段時間泡浸才可以合理，如反滲透裝置停止使用3天時，選用消毒殺菌治理更加適合。

　　6）清潔液

　　在進行反滲透膜清洗時提議選用上表列出的清潔液。明確清理前對污染源開展化學(xué)分析非常關(guān)鍵的，對剖析結(jié)論的深入分析對比，可保障采用較佳的清潔劑及清理方式，應(yīng)記載每一次清理時清理方式及得到的清理郊果，為在特殊給水標準下，查找較佳的清理方式出示根據(jù)。

　　針對無機污染源提議應(yīng)用清潔液；針對硫酸鈣及有機物提議應(yīng)用清潔液；針對嚴峻有機物環(huán)境污染提議應(yīng)用清潔液；所有清理能夠在最高溫度為40℃下清理60分鐘，所需用品量以每100加侖（379升）中添加量計，專門配制清潔液時按比例添加藥品及清理用水，應(yīng)選用不含游離氯的反滲透產(chǎn)品水來專門配制溶液并融合均勻。

　　清理時將清理溶液以低壓大流量在膜的高壓側(cè)循環(huán)，因此膜元件仍裝壓力容器內(nèi)況且需用用專業(yè)的清理設(shè)備來實現(xiàn)該作業(yè)。

　　清理反滲透膜元件的一般說來環(huán)節(jié)

　　1）用泵將干凈整潔、無游離氯的反滲透產(chǎn)品水從清理箱（或相應(yīng)的水資源）打到壓力容器中并直接排放多分鐘。

　　2）用水的質(zhì)量良好的水在清理箱中專門配制清潔液。

　　3）將清潔液在壓力容器中循環(huán)1小時或事先設(shè)置的時長，針對8英寸或8.5英寸壓力容器時，流速為35~40加侖分鐘（133~151升分鐘），針對6英寸壓力容器流速為15~20加侖分鐘（57~76升分鐘），針對4英寸壓力容器流速為9~10加侖分鐘（34~38升分鐘）

　　4）清理實現(xiàn)之后，排凈清理箱并開展清洗，接下來向清理箱中充滿干凈整潔的水以便下階段清洗。

　　5）用泵將干凈整潔、無游離氯的水從清理箱（或相應(yīng)的水資源）打到壓力容器中并直接排放多分鐘。

　　6）在清洗反滲透系統(tǒng)后，在直接排放閥打開后階段下運作反滲透系統(tǒng)，到產(chǎn)品水清潔、無泡沫或無清潔劑（一般說來需15~30分鐘）。

　　反滲透膜環(huán)境污染特色及治理方式

　　1）細菌污染

　　一般說來特色：脫鹽率將會降低、系統(tǒng)壓降顯著增加、系統(tǒng)產(chǎn)水量有所下降；

　　清理方式：pH值10，2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴峻時調(diào)整為0.25%的Na-DDBS)，溫度40℃；0.1%NaOH和0.03%SDS，pH=11.5。2）硫酸鈣環(huán)境污染

　　2）一般說來特色為脫鹽率有所下降、系統(tǒng)壓降稍有或適當提升、系統(tǒng)產(chǎn)水量稍有降低；

　　清理方式：pH值10，2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴峻時調(diào)整為0.25%的Na-DDBS)，溫度40℃；有時候也常見pH需小于10的NaOH水溶液清理。

　　3）有機物沉積

　　一般說來特色：脫鹽率將會降低、系統(tǒng)壓降慢慢地上升的、系統(tǒng)產(chǎn)水量慢慢地降低；

　　清理方式：pH值10，2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴峻時調(diào)整為0.25%的Na-DDBS)，溫度40℃。

　　4）氧化物氫氧化物（鐵、鎳、銅）環(huán)境污染

　　一般說來特色：脫鹽率顯著下降、系統(tǒng)壓降顯著上升的、系統(tǒng)產(chǎn)水量有所下降

　　清理方式：氨水調(diào)pH值4，2%的檸檬酸溶液，溫度40℃，有時候還可以用pH2-3（0.5%）的鹽酸水溶液清理。

　　5）無機鹽沉淀物環(huán)境污染

　　一般說來特色：脫鹽率顯著下降、系統(tǒng)壓降提升、系統(tǒng)產(chǎn)水量稍降

　　清理方式：2%檸檬酸溶液，氨水調(diào)pH值4，溫度40℃，也常見pH2-3（0.5%）的鹽酸水溶液清理。

　　6）各個膠體（鐵、有機物及硅膠體）環(huán)境污染

　　一般說來特色：脫鹽率稍有降低、系統(tǒng)壓降稍有上升的、系統(tǒng)產(chǎn)水量慢慢地降低。

　　清理方式：硫酸調(diào)pH值10，0.2%三聚磷酸鈉STTP溶液，溫度40℃；有時候還可以用pH需小于10的NaOH水溶液清理。

　　反滲透膜清理幾類常見秘方

　　清理秘方一、1%-2%檸檬酸溶液或0.4%HCI溶液，適用鐵環(huán)境污染及碳酸鹽結(jié)晶；

　　清理秘方二、0.2%NaCIO+0.1%NaOH溶液，適用清理由有機物及活性生物造成的膜組件的環(huán)境污染；

　　清理秘方三：0.3%H2O2+0.3%NaOH溶液，適用清理由谷氨酸發(fā)酵液造成的膜組件的環(huán)境污染；

　　清理秘方四：1%甲醛溶液，適用細菌污染的超濾；

　　清理秘方五：HNO3的0.5%水溶液，適用電泳漆操作過程中磷酸鉛對膜組件導(dǎo)致的污堵（此清理務(wù)必在別的常用化學(xué)水處理之后開展。）；

　　清理秘方六：20%的Na2CO3、7%的Na3PO4、3%的NaOH、0.5%的EDTA，關(guān)鍵用以膠體污染源導(dǎo)致的膜環(huán)境污染；

　　清理秘方七：9%的十二烷基苯磺酸鈉、9%的表面活性劑、0.4%的NaOH、0.15的無水碳酸鈉、11%的磷酸鈉、10%的硅酸鈉，清理時特別注意pH的操控，一些膜不適用以高pH清潔液的清理，要謹慎采用，關(guān)鍵用以清理含油廢水所導(dǎo)致的膜環(huán)境污染；

　　清理秘方八：3%的H3PO4、0.5%的乙二胺四乙酸二鈉、0.5%的LBOW專用型清潔劑，關(guān)鍵用以清理蛋白質(zhì)和油脂污染源導(dǎo)致的環(huán)境污染。

　　清理秘方九：20%的H2SO4，關(guān)鍵用以硅垢結(jié)晶導(dǎo)致的環(huán)境污染。

　　RO膜元件是反滲透設(shè)備系統(tǒng)中最重要的一部分，其日常生活維護保養(yǎng)的優(yōu)劣立即危害到系統(tǒng)出水水的質(zhì)量的優(yōu)劣，在這里針對反滲透膜的清理方式用以簡述，系統(tǒng)表明反滲透膜在運作中將會發(fā)生的污染源及其相對性應(yīng)的清理方式。

　　以上是關(guān)于反滲透膜常用的清洗方法以及藥劑配方，若想了解更多關(guān)于反滲透膜清洗、RO膜清洗、南京反滲透膜清洗公司，歡迎關(guān)注安峰環(huán)保官網(wǎng)，謝謝。